详解MOS管夹断和饱和区电流的特性关系分析

信息来源: 时间:2022-1-12

详解MOS管夹断和饱和区电流的特性关系分析

假使加到绝缘栅MOSFE的漏-源电压增大到使漏极近穿的那部分绝缘层具有足够小的电位差,那么在此绝缘层下面沟道就形成了耗尽区。这也是在第三章定义夹断电压时得到的结果。当VD=VG-VP时,夹断就发生了。VD>VG-VP但未越入雪崩击穿区的范围均为区2,即饱和区。因此,对于每个栅极电压,得到饱和所要求的漏-源电压是不同的。在夹断时,漏极沟道上的绝缘层,其电场强度非常之小,以至于漏极附近的沟道只有不可动的电荷存在。要引可动的电荷要有较高的电场强度。这归因于夹断沟道的耗尽层形成。源附近的沟道区然具有很大的自由载流子浓度,因为源是处于地电位,因而栅和源之间的电位差要此夹断时概和漏之间电位差大得多,所以源附近的绝缘层上,其电场强度也必然大得多,随着沟道位置从源到漏的推移,其导电载流子的浓度也随之迅速地降低。

对于给定的栅极电压,漏-源电压可以逐步增大直到夹断发生为止,此时漏-源电流开始饱和,这种情况如图4-6所示。

MOS管夹断和饱和区

夹断时耗尽层的宽度要比沟道长度小得多。但是超过夹断而附加的任何漏-源电压全部都加在此耗尽层上,沟道其余部分所施的电压则保持恒定。当漏-源电压增大而超越夹断时,耗尽层变宽,同时向着源区移动;不过,沟道其余部分的长度变化是十分小的。超过夹断时,对于一定的栅压,沟道区所剩部分的长度(因而其电阻)及其施加在这部分沟道上的电压保持恒定。因而漏源电压高于夹断时,流经沟道其余部分的电流也是恒定的。

理想的情况,耗尽区本身对于能和电流是没有影响的。对于漏-源电压超过夹断的情况,耗尽区存在着高的电场,随着VD的增大,此电场强度也增高,假定耗尽层中所有杂质都离化了,因而该区就没有自由载流子,这样就不会生复合作用,因此从理论上来讲,流经此区的电流不会减小。耗尽层不会阻塞任何沟道电流,因为进入耗尽层的任何载流子立刻就会被高电场“扫除”到另一边。

任何漏-源洩漏旁路的存在都会反映到饱和区的I-V曲线上,此时恒定电流曲钱的斜率就不再为零了,区2曲线的斜率实际上就是洩漏电阻的倒数。

如前所述,在正常的工作条件下,沟道系集中在源极附近。对于N沟道元件而言,源极附近的沟道区比漏附近沟道区具有更多的导带电子。这样,整个沟道中就存在载流子浓度的梯度。如图4-7所示。

MOS管夹断和饱和区

如果知道沟道中作为X和Y函数的导带电子的分布情兄,就可以写出

MOS管夹断和饱和区

上式第一项表示image.png时的扩散电流,第二项表示其漂移嗲电流。但是,如果沟道中非夹断区的n是缓慢变化的(如图4-7所示),image.png就不足以引起可观的扩散电流。这是因为浓度梯度几乎布在整个沟道的长度上,其典型长度为0.5至1密耳,虽然小的扩散电流在非夹断的沟道上流动,实际上所有电流都是由漂移而引起的。耗尽区中可能存在着大得多的载流子浓度梯度。因而在这里,扩散电流起了一定的作用。如果只考虑漂移过程,其结果为第三章所推导的那样,能和区表现出平方律的关系。即

MOS管夹断和饱和区

MOS管夹断和饱和区

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